金融界2025年6月17日消息，国家知识产权局信息显示，武汉东艺建筑设计有限公司取得一项名为“一种减少屋面渗漏的天沟屋面结构”的专利，授权公告号CN222991032U，申请日期为2024年07月建筑设计 。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种减少屋面渗漏的天沟屋面结构，包括天沟支架，其为竖直设置的U型结构，且U型结构的凹槽开口朝上；金属屋面，其安装于所述天沟支架的一侧，且所述金属屋面一端位于所述天沟支架的凹槽上方；下挂金属板，其为U型，所述下挂金属板竖直设置，其一端连接于所述金属屋面位于所述天沟支架的凹槽上的一端；活动金属板，其位于所述天沟支架内，所述活动金属板包括彼此U型板和垂直连接于U型板一端的底板，所述U型板倒嵌挂设在下挂金属板的U型槽内建筑设计 。
天眼查资料显示，武汉东艺建筑设计有限公司，成立于1995年，位于武汉市，是一家以从事商务服务业为主的企业建筑设计 。企业注册资本142万美元。通过天眼查大数据分析，武汉东艺建筑设计有限公司参与招投标项目177次，专利信息34条，此外企业还拥有行政许可5个。
来源：金融界