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武汉东艺建筑设计取得减少屋面渗漏的天沟屋面结构专利,减少屋面渗漏:建筑设计
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金融界2025年6月17日消息,国家知识产权局信息显示,武汉东艺建筑设计有限公司取得一项名为“一种减少屋面渗漏的天沟屋面结构”的专利,授权公告号CN222991032U,申请日期为2024年07月建筑
2025-06-18
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